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J-GLOBAL ID:200903090088949867
低反射ガラスおよびその製法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
坂本 栄一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992303711
Publication number (International publication number):1994157076
Application date: Nov. 13, 1992
Publication date: Jun. 03, 1994
Summary:
【要約】【構成】ガラス基板の表面上に、該薄膜がSiアルコキシド系化合物或いはSiアセチルアセトネート系化合物の中から少なくとも1種以上の化合物を二つ以上選択し、しかも該選択した二つ以上の化合物における平均分子量が異なるものであって、該二つ以上の化合物を溶剤と共に混合してコーティング溶液とし、該溶液の選択する二つ以上の化合物の混合割合の調整又は/及び該溶液を湿度環境を制御する中で被膜し、加熱成膜して成る、マイクロピット状表層又は凹凸状表層であるゾルゲル膜において、該層の膜厚が60〜160nm 、該状径が50〜200nm で、しかも屈折率が1.21〜1.40である低反射ガラス。並びにその製法。【効果】手軽に容易な膜形成手段でもって薄膜を安価に効率よく得られ、該薄膜で特異な形状を有する頑固な表層となり、単層膜で低反射特性を有して充分その性能を発揮し、光学特性を損わず、密着性や耐候性等に優れ、建築用窓材をはじめ各種ガラス物品や種々の被覆膜に広く採用できる有用なものとなる。
Claim (excerpt):
ガラス基板の表面上に形成した薄膜において、該薄膜がSiアルコキシド系化合物あるいはSiアセチルアセトネート系化合物のなかから少なくとも1種以上の化合物を二つ以上選択し、しかも該選択した二つ以上の化合物における平均分子量が異なるものであって、該二つ以上の化合物を溶剤とともに混合してコーティング溶液とし、該溶液の選択する二つ以上の化合物の混合割合の調整または/および該溶液を相対湿度のコントロールのもとに被膜し、加熱成膜して成る、マイクロピット状表層または凹凸状表層であるゾルゲル膜において、該マイクロピット状表層または凹凸状表層の膜厚が60〜160nmで、かつ、該マイクロピット状または凹凸状の径が50〜200nmであり、しかもその屈折率が1.21〜1.40であることを特徴とする低反射ガラス。
IPC (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特開昭60-127250
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特開昭62-226840
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