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J-GLOBAL ID：200903090090882591

光導波路の製造方法および光導波路

Inventor：
関口 学

About 関口 学

, 
森川 明彦

About 森川 明彦

, 
佐藤 穂積

About 佐藤 穂積


Applicant, Patent owner：
ジェイエスアール株式会社

About ジェイエスアール株式会社


Agent (1)： 大井 正彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998238406
Publication number (International publication number)：2000066051
Application date： Aug. 25, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：
【要約】【課題】 導波路損失が低く、耐熱性に優れた光導波路を、短時間でかつ簡単に製造することができる方法、並びにこの方法による光導波路を提供すること。【解決手段】 本発明は、基板、下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層よりなる光導波路の製造方法であって、下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層の少なくとも一つは、放射線硬化性組成物を塗布して放射線の照射により硬化させることを含む手段により形成される。コア部分は、放射線硬化性組成物を塗布して得られる薄膜に、所定のパターンに従って放射線を照射して未露光部を除去することにより形成することが好ましい。放射線硬化性組成物は、(A)特定の加水分解性シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物、(B)光酸発生剤並びに(C)脱水剤を含有するものが好ましい。光導波路は、上記の方法によって製造される。
Claim (excerpt)：
基板と、この基板上に形成された下部クラッド層と、この下部クラッド層上に形成されたコア部分と、このコア部分および下部クラッド層上に形成された上部クラッド層とよりなる光導波路の製造方法であって、下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層の少なくとも一つを、放射線硬化性組成物を塗布して放射線の照射により硬化させることを含む手段により形成することを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (3)：
G02B 6/13 ,  C09D183/04 ,  C08G 77/04
FI (3)：
G02B 6/12 M ,  C09D183/04 ,  C08G 77/04
F-Term (48)：
2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA13 ,  2H047PA21 ,  2H047PA22 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA35 ,  2H047TA36 ,  2H047TA43 ,  4J035BA01 ,  4J035BA11 ,  4J035CA13N ,  4J035CA131 ,  4J035CA14N ,  4J035CA141 ,  4J035EA01 ,  4J035EB02 ,  4J035LA03 ,  4J035LB17 ,  4J038DL051 ,  4J038DL071 ,  4J038DL081 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038HA556 ,  4J038JA29 ,  4J038JA31 ,  4J038JA33 ,  4J038JA42 ,  4J038JA56 ,  4J038JA59 ,  4J038JB15 ,  4J038JC01 ,  4J038JC19 ,  4J038JC20 ,  4J038JC37 ,  4J038JC38 ,  4J038KA02 ,  4J038KA04 ,  4J038KA11 ,  4J038KA20 ,  4J038NA17 ,  4J038PA17 ,  4J038PB08 ,  4J038PB09 ,  4J038PB11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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