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J-GLOBAL ID：200903090096788295

洗浄剤組成物及び洗浄方法

Inventor： 小布施 洋
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 内山 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995059803
Publication number (International publication number)：1996231989
Application date： Feb. 23, 1995
Publication date： Sep. 10, 1996
Summary：

【要約】【構成】炭化水素系溶媒と金属イオンを配位し得る有機化合物を含有することを特徴とする洗浄剤組成物、及び、被洗浄物を該洗浄剤組成物と接触させたのち、溶媒と接触させることを特徴とする洗浄方法。【効果】本発明の洗浄剤組成物及び洗浄方法によれば、オゾン層破壊の原因となる有機ハロゲン系溶媒を使用することなく、プリント基板上のフラックス残渣を溶解し、効果的に除去することができる。

Claim (excerpt)：

炭化水素系溶媒と金属イオンに配位し得る有機化合物を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (6)：

C11D 7/24 ZAB ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/36 ,  C23G 5/02 ,  H01L 21/304 341

FI (6)：

C11D 7/24 ZAB ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/36 ,  C23G 5/02 ,  H01L 21/304 341 L