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J-GLOBAL ID：200903090103304100

磁気記録媒体及びその製造方法

Inventor： 上田 国博 ,  小林 康二 ,  金沢 弘道
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993315574
Publication number (International publication number)：1995169042
Application date： Dec. 15, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【構成】 非磁性基体(1)上に、アンダーコート層(2)、磁性層(3)及び保護層(4)を順次積層した多層構造体において、アンダーコート層(2)が一般式SiOx(ただし、1.8≦x≦1.95)で表わされるケイ素酸化物であり、磁性層(3)がケイ素化合物及び酸素の存在下で成膜されたコバルト又はコバルト合金であり、保護層(4)が屈折率1.9以上、接触角80度未満の水素含有炭素膜である磁気記録媒体である。【効果】 耐食性、摩擦耐久性、耐候性が著しく向上したものである。

Claim (excerpt)：

非磁性基体上に、アンダーコート層、磁性層及び保護層を順次積層して構成された多層構造体において、(イ)アンダーコート層が一般式SiOx(ただし、1.8≦x≦1.95)で表わされるケイ素酸化物から成ること、(ロ)磁性層がケイ素化合物及び酸素の存在下で成膜されたコバルト又はコバルト合金から成ること、及び(ハ)保護層が水素含有炭素膜から成り、屈折率が1.9以上で、接触角が80度未満であることを特徴とする磁気記録媒体。

IPC (4)：

G11B 5/704 ,  G11B 5/706 ,  G11B 5/72 ,  G11B 5/84