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J-GLOBAL ID：200903090147734292
ICの低温ハンドリング装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
菅野 中
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991234069
Publication number (International publication number)：1993052904
Application date： Aug. 21, 1991
Publication date： Mar. 02, 1993
Summary：
【要約】【目的】 恒温槽内及び恒温槽出入口の結露を完全に防止する。【構成】 恒温槽出入口12の物理的シャッターを恒温槽出入口12の内側だけでなく、外側にも設け、恒温槽トランスファ9のハンド部11に恒温槽出入口12を遮断できる遮断ブロック11aを設け、恒温槽出入口12に接続して恒温槽出入口12の断面形状と同一の中空を持つ中空ブロック42を設け、恒温槽出入口12に対する窒素ガスの供給を低温窒素ガス(冷却ユニット31より得る)と高温窒素ガス(加熱ユニット32より得る)とに切換える電磁弁34を設け、中空ブロック42内に対する窒素ガス供給口29aを設け、恒温槽出入口12内又は中空ブロック11a内に閉空間が形成されたときに閉空間内が所定圧力以上となると外部に対してリークできるリーク弁を設け、恒温槽41内を一定圧力に保つ圧力調整ユニットを設ける。
Claim (excerpt)：
恒温槽内への製品の供給・収納を行う恒温槽出入口を遮断するシャッター機構をもつICの低温ハンドリング装置であって、前記恒温槽出入口を遮断する恒温槽の内側に設けた第1のシャッター機構と、前記恒温槽出入口を遮断する恒温槽の外側に設けた第2のシャッター機構と、恒温槽内への製品の供給・収納を行うハンド部に設けた前記出入口を遮断可能な遮断ブロックと、前記恒温槽出入口に接続して設け該出入口の断面形状と同一の中空をもつ中空ブロックと、第1のシャッター機構と第2のシャッター機構と恒温槽出入口とにより形成される第1の閉空間に対する窒素ガス供給機能及び窒素ガス排出機能をもつ手段と、第2のシャッター機構と前記ハンド部の遮断ブロックと前記中空ブロックとにより形成される第2の閉空間に対する窒素ガス供給機能及び窒素ガス排出機能をもつ手段と、恒温槽内の圧力を一定に保つ機能をもつ手段とを有することを特徴とするICの低温ハンドリング装置。
IPC (2)：
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