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J-GLOBAL ID:200903090153878603

シリコンウェーハ及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須田 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999058145
Publication number (International publication number):2000260670
Application date: Mar. 05, 1999
Publication date: Sep. 22, 2000
Summary:
【要約】【課題】 機械的強度をそれ程低下させることなく、かつ厚さを小さくしたシリコンウェーハを製造する。【解決手段】 少なくともウェーハ周辺部10aを除くシリコンウェーハ10の片面又は両主面の全領域にわたって凹部11,12が形成されるか、又はウェーハ周辺部10aに加えてウェーハ中央部を除くシリコンウェーハ10の片面又は両主面の全領域にわたって凹部11,12が形成されたシリコンウェーハである。この凹部11,12の深さd1,d2が互いに同一である。
Claim (excerpt):
少なくともウェーハ周辺部(10a)を除くシリコンウェーハ(10)の片面又は両主面の全領域にわたって凹部(11,12)が形成されたシリコンウェーハ。

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