プラズマアシストガス処理用反応器

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中村稔 (外9名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000599989
Publication number (International publication number)：2002537510
Application date： Feb. 10, 2000
Publication date： Nov. 05, 2002
Summary：

【要約】ガス状媒体のプラズマアシスト処理用の反応器であって、反応器チャンバー(200)を含み、該チャンバーは、活性物質のガス透過性床(100)を含み、また該活性物質の床を流動するガス状媒体内にプラズマを確立するのに十分な電位を、該活性物質の床を横切る電位を印加する手段(209)および該ガス状媒体を拘束して、該活性物質の床を流動させる手段(201、202、203)をも含み、該活性物質の床は、ビーズの規則的なアレイを含むアセンブリからなる、誘電体物質製ビーズ(103、208)のマトリックス(207)を含み、該アレイ各々において、隣接するビーズは、高電位入力端子またはアース点(105'、105'')に接続されている。

Claim (excerpt)：

ガス状媒体のプラズマアシスト処理用反応器であって、活性材料のガス透過性床(100)を含む反応器チャンバー(200)、ガス状媒体を拘束して、該活性材料の床を流通させる手段(201、202、203)を含み、該活性材料の床は、誘電体材料製部品(103;208)のマトリックスアレイ(207)を含み、該マトリックスアレイは、誘電性材料の第二部品(103;208)と共に散在する誘電性材料の第一部品(103;208)を含み、第一給電端子と電気的に接続した、1以上の第一の電導性部材(105')は、該第一部品の少なくとも一つと電気的接触状態にあり、第二の給電端子と電気的に接続された、1以上の導電性部材(105'')は、該第二部品の全てまたはその複数と接触状態にあることを特徴とする、上記反応器。

IPC (10)：

F01N 3/08 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/56 , B01D 53/74 , B01J 19/08 , F01N 3/02 301 , F01N 3/02 321 , F01N 3/24 , F01N 3/28 301 , H05H 1/24

FI (9)：

F01N 3/08 C , B01J 19/08 E , F01N 3/02 301 F , F01N 3/02 321 B , F01N 3/24 A , F01N 3/28 301 C , H05H 1/24 , B01D 53/34 129 C , B01D 53/34 ZAB

F-Term (42)：

3G090AA06 , 3G090BA01 , 3G090EA02 , 3G091AA18 , 3G091AA28 , 3G091AB04 , 3G091AB14 , 3G091BA00 , 3G091BA14 , 3G091GA01 , 3G091GA03 , 3G091GA04 , 3G091GA05 , 3G091GA06 , 3G091GB01W , 3G091GB02W , 3G091GB03W , 3G091GB04W , 3G091GB09W , 3G091GB10W , 3G091HA07 , 4D002AA12 , 4D002AC10 , 4D002BA09 , 4D002CA20 , 4D002EA02 , 4G075AA37 , 4G075BA06 , 4G075CA47 , 4G075CA54 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EC21 , 4G075EE02 , 4G075EE05 , 4G075EE12 , 4G075EE33 , 4G075EE40 , 4G075FA12 , 4G075FB02 , 4G075FB04 , 4G075FC15

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