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J-GLOBAL ID：200903090164185642

ハロゲン系ガスの処理方法、処理装置および反応処理装置並びに半導体装置

Inventor： 森 義明
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997326511
Publication number (International publication number)：1999156156
Application date： Nov. 27, 1997
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ハロゲン系ガスを効率よく安価に処理できるようにする。【解決手段】 放電部14の放電電極18、20間には、ガス排出源12から大気圧の四フッ化炭素ガスとともに水蒸気発生器24から水蒸気が供給されるようになっている。高周波電源22により電極18、20間に高周波電圧を印加すると、四フッ化炭素ガスが分解されて水蒸気と反応し、フッ化水素ガスと二酸化炭素ガスとが生成される。これらのガスは、放電部14の排出側に設けたバブリング器26に導かれ、フッ化水素が水28に溶解する。

Claim (excerpt)：

ハロゲン系ガスと、水素ガスまたは水素原子を含むハロゲン化物以外の化合物の気体とを混合し、この混合ガスを放電部を通過させてハロゲン化水素を生成したのち、ハロゲン化水素を捕集することを特徴とするハロゲン系ガスの処理方法。

IPC (3)：

B01D 53/68 ,  B01D 53/32 ,  H01L 21/3065

FI (3)：

B01D 53/34 134 C ,  B01D 53/32 ,  H01L 21/302 B