Pat

J-GLOBAL ID：200903090168631442

ネガ型フォトレジスト組成物

Inventor： 楠本 武宏 ,  植田 裕治 ,  植木 裕美 ,  竹山 尚幹
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992015009
Publication number (International publication number)：1993210239
Application date： Jan. 30, 1992
Publication date： Aug. 20, 1993
Summary：

【要約】【目的】 遠紫外線及びエキシマーレーザー等の光源における露光領域において高感度及び高解像度を有するネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 式(I)-SO2 -SO2 - (I)で示される基を含む光酸発生剤、アルカリ可溶性樹脂及び、メチロール基もしくはメチロールエーテル基を含む架橋剤を含有してなるネガ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

式(I)-SO2 -SO2 - (I)で示される基を含む光酸発生剤、アルカリ可溶性樹脂及び、メチロール基もしくはメチロールエーテル基を含む架橋剤を含有してなるネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/028 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027