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J-GLOBAL ID：200903090169477552

基板処理装置および基板搬送機構の制御方法

Inventor：
上山 勉

About 上山 勉


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993113649
Publication number (International publication number)：1994297380
Application date： Apr. 15, 1993
Publication date： Oct. 25, 1994
Summary：
【要約】【目的】 被処理基板受け渡しなどによる時間的・空間的ロスを防止し、基板搬送機構の運用効率が高い基板処理装置を提供すること。【構成】 環状軌道110に沿って処理部11,18などが配列している。2台の基板搬送ロボット150a、150bが環状軌道上を反時計まわりに循環移動しながら、被処理基板2の搬送および各処理部への被処理基板の出し入れを行う。基板搬送ロボットは、環状軌道上を1周するごとに給電線121a,121bの捻れを戻すべく自転する。【効果】 基板搬送ロボット間の被処理基板の受け渡しが不要である。また、基板搬送ロボットは往路を経由することなく初期位置に戻れるため、基板搬送ロボットの運用効率が高い。基板搬送ロボットの自転によって給電線の捻れが防止され、連続運用が可能である。
Claim (excerpt)：
被処理基板を搬送しつつ前記被処理基板に対して一連の処理を行うための基板処理装置であって、(a) 環状軌道と、(b) 複数の単位処理部が前記環状軌道に沿って配列された処理列と、(c) 前記被処理基板を保持して環状軌道上を循環移動し、それによって前記被処理基板の搬送を行うとともに、前記単位処理部への前記被処理基板の出し入れを行う基板搬送機構と、を備えることを特徴とする基板搬送装置。
IPC (7)：
B25J 19/00 ,  B65G 49/07 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 特開昭60-221289
  • 半導体製造管理システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-273758   Applicant：宮崎沖電気株式会社, 沖電気工業株式会社

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