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J-GLOBAL ID：200903090185035764

パターン検査装置及び方法

Inventor： 前田 俊二 ,  窪田 仁志 ,  広井 高志 ,  吉武 康裕 ,  牧平 坦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994116202
Publication number (International publication number)：1995318326
Application date： May. 30, 1994
Publication date： Dec. 08, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は、微細な回路パターンを高い分解能で検出する方法及び装置を提供することにある。【構成】対物レンズの瞳或いはこれに共役な位置に結像するレンズを介して瞳を検出する手段と、これにより検出した画像情報を用いて回折光分布、例えば0次回折光と±1次回折光の分布情報を得、これらが開口内にバランス良く配置されるように、輪帯状の照明を制御する。【効果】輪帯状の照明により0次光をウェーハに対し斜めに入射し、反射光である0次回折光と1次回折光(+1次回折光或いは-1次回折光のいずれか)を対物レンズの開口内に取り込むことにより、十分な分解能を得る。さらに、反射光である0次回折光と1次回折光(+1次回折光或いは-1次回折光のいずれか)を光軸に対しバランスさせることにより、種々の回路パターンに対応できる。

Claim (excerpt)：

多数の仮想の点光源から形成された輪帯状の照明を、対物レンズを介して対象物の検出視野においてほぼ一様に施す照明手段と、対象からの反射光を検出する手段と、検出した画像と基準とする画像を比較する手段を有し、上記構成により検出された画像を基準とする画像と比較することを特徴とするパターン検査装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 照明装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-283640   Applicant：キヤノン株式会社