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J-GLOBAL ID：200903090201492658

ドライ現像用ポジ型レジスト組成物

Inventor： 高橋 純一 ,  日馬 征智 ,  高橋 俊彦 ,  柳原 健児
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993081558
Publication number (International publication number)：1994266101
Application date： Mar. 12, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 シリル化および/またはゲルミル化の制御が容易で、現像性、レジストパターンの形状等に優れ、かつ露光部の現像残り、未露光部の膜減り等を解決したドライ現像用ポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 水酸基含有ベース樹脂および架橋剤を含有し、前記架橋剤は、光架橋剤と熱架橋剤との組合せからなることを特徴とするドライ現像用ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

水酸基含有ベース樹脂および架橋剤を含有し、前記架橋剤は、光架橋剤と熱架橋剤との組合せからなることを特徴とするドライ現像用ポジ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/027