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J-GLOBAL ID：200903090205516802

希ガス回収方法

Inventor： 小泉 彰 ,  山田 裕司 ,  下 道國 ,  蓼沼 克嘉 ,  野口 恒行 ,  戸祭 智 ,  石川 幸治
Applicant, Patent owner： 科学技術庁放射線医学総合研究所長 ,  株式会社化研 ,  小泉 彰 ,  山田 裕司 ,  下 道國
Agent (1)： 北條 和由
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999248189
Publication number (International publication number)：2001074885
Application date： Sep. 02, 1999
Publication date： Mar. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】 吸着材等の捕集効率を向上させ、しかも水分の影響を受けず、捕集施設の規模をコンパクト化する。【解決手段】 希ガスを活性なハロゲン元素と反応させて希ガスハロゲン化合物とし、この希ガスハロゲン化合物を吸着材で捕集し、希ガスを回収する。例えば、フッ素含有ガスを希ガスとを混合させ放電励起することによって生成する励起状態の希ガス元素と活性なフッ素元素とを反応させて希ガスフッ素化合物を得る。生成した希ガスハロゲン化合物を捕集は、活性炭、ゼオライト、その他無機性及び有機性多孔質物質の何れかの吸着材を有するガスフィルタを用い、この吸着材に希ガスハロゲン化合物を吸着する。

Claim (excerpt)：

希ガスを活性なハロゲン元素と反応させて希ガスハロゲン化合物とし、この希ガスハロゲン化合物を捕集することによって希ガスを回収することを特徴とする希ガス回収方法。

IPC (6)：

G21F 9/02 511 ,  G21F 9/02 ,  G21F 9/02 551 ,  B01D 53/02 ,  B01J 19/08 ,  C01B 23/00

FI (7)：

G21F 9/02 511 M ,  G21F 9/02 511 L ,  G21F 9/02 551 E ,  B01D 53/02 Z ,  B01J 19/08 C ,  B01J 19/08 E ,  C01B 23/00 Z

F-Term (12)：

4D012BA01 ,  4D012BA02 ,  4D012BA03 ,  4G075AA03 ,  4G075BA01 ,  4G075BA05 ,  4G075BB04 ,  4G075CA15 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075EB21

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開昭63-050478
  

Cited by examiner (1)

• 特開昭63-050478