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J-GLOBAL ID：200903090237620377

酸化物超電導導体の接続方法

Inventor： 尾鍋 和憲 ,  斉藤 隆 ,  長屋 重夫
Applicant, Patent owner： 株式会社フジクラ ,  中部電力株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000133857
Publication number (International publication number)：2001319750
Application date： May. 02, 2000
Publication date： Nov. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 酸化物超電導導体25同士の接続作業が簡単で、その接続部の強度が高く、安定性が向上され、接続後にも酸化物超電導導体の臨界電流密度の低下が少ない酸化物超電導導体の接続方法を得る。【解決手段】 各酸化物超電導導体25の端部で、その端部の酸化物超電導層23を除去して基材21の一部を露出させ、ついで、各酸化物超電導導体25のこの露出した基材21同士を突き合わせて接合し、ついで、この基材21の接合部分上と露出部分上と各酸化物超電導層23上に、これらにまたがるようにして各酸化物超電導層23を接続するための接続用酸化物超電導層26を形成し、ついで、酸化物超電導層23と接続用酸化物超電導層26上に表面保護層24を形成する。

Claim (excerpt)：

テープ状の基材上に酸化物超電導層が形成された酸化物超電導導体同士の接続方法であって、各酸化物超電導導体の端部で、その端部の酸化物超電導層を除去して基材の一部を露出させ、ついで、各酸化物超電導導体のこの露出した基材同士を突き合わせて接合し、ついで、この基材の接合部分上と露出部分上と各酸化物超電導層上に、これらにまたがるようにして各酸化物超電導層を接続するための接続用酸化物超電導層を形成し、ついで、酸化物超電導層上と接続用酸化物超電導層上に表面保護層を形成することを特徴とする酸化物超電導導体の接続方法。

IPC (4)：

H01R 43/00 ZAA ,  H01B 12/06 ZAA ,  H01L 39/00 ZAA ,  H01R 4/68 ZAA

FI (4)：

H01R 43/00 ZAA Z ,  H01B 12/06 ZAA ,  H01L 39/00 ZAA C ,  H01R 4/68 ZAA

F-Term (16)：

4M113AD36 ,  4M113AD56 ,  4M113BA03 ,  4M113BA07 ,  4M113BA29 ,  4M113BC04 ,  4M113BC05 ,  4M113CA34 ,  4M113CA35 ,  4M113CA36 ,  5E051GA04 ,  5G321AA01 ,  5G321BA06 ,  5G321CA18 ,  5G321CA24 ,  5G321CA27

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-181664
  
• 特開平1-302676
  
• 特開平1-102881