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J-GLOBAL ID：200903090249726960

マイクロレンズの製造方法および半導体装置の製造方法

Inventor： 佐野 義和 ,  高木 貢
Applicant, Patent owner： 松下電子工業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992254538
Publication number (International publication number)：1994112454
Application date： Sep. 24, 1992
Publication date： Apr. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 マイクロレンズの製造方法において、マイクロレンズの間隔を詰めても隣接するレンズ樹脂材料が接触しないようにする。【構成】 基板上に熱溶融するレンズ樹脂材料からなる透明層8aを選択的に形成する工程と、透明層8aを熱溶融しマイクロレンズ8を形成する工程とを有し、熱溶融前の透明層8aを多角形でかつ辺の少なくとも一部8bが隣合う頂点d,e,f,gを結ぶ線より内側にある形状に形成する。

Claim (excerpt)：

基板上に熱溶融する透明層を選択的に形成する工程と、前記透明層を熱溶融しレンズを形成する工程とを有し、前記熱溶融前の透明層を多角形でかつ辺の少なくとも一部が隣合う頂点を結ぶ線より内側にある形状に形成することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。

IPC (2)：

H01L 27/14 ,  H01L 31/0232

FI (2)：

H01L 27/14 D ,  H01L 31/02 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• マイクロレンズの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-203351   Applicant：株式会社日立製作所, 日立デバイスエンジニアリング株式会社