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J-GLOBAL ID:200903090261756115

スズメツキホイスカーの抑制方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐藤 孝夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991207236
Publication number (International publication number):1993033187
Application date: Jul. 25, 1991
Publication date: Feb. 09, 1993
Summary:
【要約】【構成】 銅又は銅合金の微細パターン上にスズメッキを施すに際し、まず厚さ0.15μm以上のスズメッキを施し、次いで加熱処理して該純スズ層をすべて銅素地とのCu-Sn拡散層とし、その上にスズメッキを施し、純スズメッキ厚を0.15〜0.8μmとする。【効果】 下地メッキや合金メッキ方法のように、スズ以外の金属をメッキ皮膜として導入すること無く、比較的安価な手段でスズホイスカーを抑制することができ、微細パターンにおける信頼性の高いスズメッキのみのメッキ皮膜が得られる。
Claim (excerpt):
銅又は銅合金の微細パターン上にスズメッキを施すに際し、まず厚さ0.15μm以上のスズメッキを施し、次いで加熱処理して該純スズ層をすべて銅素地とのCu-Sn拡散層とし、その上にスズメッキを施し、純スズメッキ厚を0.15〜0.8μmとすることを特徴とするスズメッキホイスカーの抑制方法。
IPC (6):
C25D 5/10 ,  C23C 10/28 ,  C23C 18/52 ,  C25D 3/30 ,  C25D 5/50 ,  C25D 7/00

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