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J-GLOBAL ID：200903090265579005
細胞培養基材
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
庄司 隆
, 資延 由利子
, 大杉 卓也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006097596
Publication number (International publication number)：2007267673
Application date： Mar. 31, 2006
Publication date： Oct. 18, 2007
Summary：
【課題】本発明は、安価であり、かつ各種滅菌処理を問題なく実施可能な細胞培養に適した細胞培養基材を提供することを目的する。【解決手段】細胞培養基材であるポリスチレンのゼータ電位が、pH5.0〜7.5の10mM NaCl水溶液中では通常はゼロからプラス電荷近傍であるところ、紫外線照射処理等により基材表面のゼータ電位をマイナス電荷に改変することによる。ゼータ電位がマイナス電荷に改変された細胞培養用基材で細胞を培養すると、ゼータ電位がプラス電荷の細胞培養用基材で培養したものに比べて細胞が明らかに増殖した。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
pH5.0〜7.5の10mM NaCl水溶液中での表面のゼータ電位がマイナス電荷に荷電されたポリスチレンからなる細胞培養基材。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (7)：
4B029AA08
, 4B029AA21
, 4B029BB01
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029CC10
, 4B029GB09
Cited by applicant (2)
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細胞培養用具およびその表面加工方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平3-226997
Applicant：住友ベークライト株式会社
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細胞培養システム
Gazette classification：公表公報
Application number：特願平10-525365
Applicant：スミスアンドネフューピーエルシー
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