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J-GLOBAL ID：200903090266403415

排水の処理方法

Inventor： 奥脇 昭嗣 ,  吉岡 敏明 ,  亀田 知人
Applicant, Patent owner： 宇部マテリアルズ株式会社
Agent (1)： 柳川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000338723
Publication number (International publication number)：2002136965
Application date： Nov. 07, 2000
Publication date： May. 14, 2002
Summary：

【要約】【課題】 実用的に無理のないコストで実現できるような簡単な装置を用いながらも、pHが3以下の酸性排水からアニオンを工業的に有利に固定除去することができる排水の処理方法を提供すること。【解決手段】 塩化物イオン、硝酸イオン、フッ化物イオン、及び硫酸イオンのうちの少なくとも一種のアニオンを含み、かつpHが3以下の排水に、下記の化学式:M2+1-XM3+XO(2+x)/2(但し、M2+は2価のカルシウムイオン又はマグネシウムイオンを、M3+は3価のアルミニウムイオン、鉄イオン、及びクロムイオンのうちのいずれか一種を表し、Xは0.2〜0.35を示す)で表され、岩塩型構造を持つ複合金属酸化物を接触させて、該複合金属酸化物にアニオンを固定する排水の処理方法。

Claim (excerpt)：

塩化物イオン、硝酸イオン、フッ化物イオン、及び硫酸イオンのうちの少なくとも一種のアニオンを含み、かつpHが3以下の排水に、下記の化学式:M2+1-XM3+XO(2+x)/2(但し、M2+は2価のカルシウムイオン又はマグネシウムイオンを、M3+は3価のアルミニウムイオン、鉄イオン、及びクロムイオンのうちのいずれか一種を表し、Xは0.2〜0.35を示す)で表され、岩塩型構造を持つ複合金属酸化物を接触させて、該複合金属酸化物にアニオンを固定することを特徴とする排水の処理方法。

IPC (7)：

C02F 1/28 ,  B01J 41/10 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/58 ZAB ,  C02F 1/66 510 ,  C02F 1/66 521

FI (9)：

C02F 1/28 E ,  B01J 41/10 ,  C02F 1/42 E ,  C02F 1/58 M ,  C02F 1/58 P ,  C02F 1/58 Q ,  C02F 1/58 ZAB L ,  C02F 1/66 510 L ,  C02F 1/66 521 S

F-Term (20)：

4D024AA04 ,  4D024AB11 ,  4D024BA11 ,  4D024BA12 ,  4D024BA13 ,  4D024BA14 ,  4D025AA09 ,  4D025AB06 ,  4D025AB11 ,  4D025AB14 ,  4D025BA02 ,  4D038AA08 ,  4D038AB31 ,  4D038AB36 ,  4D038AB39 ,  4D038AB40 ,  4D038AB81 ,  4D038BB01 ,  4D038BB13 ,  4D038BB17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭59-209644
  
• 微細な酸化物固溶体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-211306   Applicant：コープケミカル株式会社