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J-GLOBAL ID：200903090278010958

プラズマ加工方法およびプラズマ発生装置

Inventor： ダラム パル ゴサイン ,  ジョナサン ウェストウォーター ,  碓井 節夫
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994232606
Publication number (International publication number)：1996097155
Application date： Sep. 28, 1994
Publication date： Apr. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、プラズマ加工時にプラズマが生成される領域から発生する紫外線を排除してプラズマのみを試料の被加工面に供給することで、試料の保護を図る。【構成】 チェンバー11内に発生させたプラズマ領域21から放出される紫外線UVを遮るとともに、プラズマ領域21中のプラズマ化した粒子(プラズマ)Pを試料101の被加工面101Sに導くような紫外線遮蔽手段31を設ける。この紫外線遮蔽手段31を通過した粒子によって、試料101にドーピングを行う、または試料101の被加工面101Sをエッチングする、または試料101の被加工面101Sに堆積膜を形成する。

Claim (excerpt)：

チェンバー内にプラズマを発生させて、該プラズマによって該チェンバー内に配置した試料を加工するプラズマ加工方法において、前記チェンバー内に発生させたプラズマ領域から放射される紫外線を遮るとともに該プラズマ領域中の粒子を該試料表面に導いて、該試料に該粒子をドーピングする、または該粒子によって該試料表面をエッチングする、または該試料表面に該粒子を堆積して膜を形成することを特徴とするプラズマ加工方法。

IPC (4)：

H01L 21/205 ,  C23C 14/54 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-192520
  
• 液晶表示装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-310352   Applicant：株式会社東芝
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-237251   Applicant：三菱電機株式会社
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-165635   Applicant：株式会社プラズマシステム