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J-GLOBAL ID：200903090301869716

光弾性変調器を用いたフーリエ変換赤外線分光の複数の変調測定のためのデジタル信号処理技術

Inventor：
カーベロ ラウル

About カーベロ ラウル


Applicant, Patent owner：
バイオ-ラッド ラボラトリーズ インコーポレイテッド

About バイオ-ラッド ラボラトリーズ インコーポレイテッド


Agent (1)： 中村 稔 (外9名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000506498
Publication number (International publication number)：2001517774
Application date： Aug. 06, 1998
Publication date： Oct. 09, 2001
Summary：
【要約】ステップ走査FT-IR分光計において偏光光弾性変調(PEM)を用いて複数の変調測定を実行するためのデジタル信号処理(DSP)技術。PEM駆動信号の周波数と位相は、実際の測定のために集められたデジタル化されたデータから抽出される。そして、これは偏光信号(例えば、CD、LD、DIRLD)の所望の解析の実行のために用いることができる。これは、PEM周波数の最初の推定値(典型的には名目的PEM周波数ω0または前のステップでから決定された値で出発する)を連続的に洗練することにより達成される。これは位相誤差を計算するためにPEM周波数の現在推定値を使用し、そしてPEM周波数の推定値を洗練するために計算された位相誤差を使用することによりなされる。位相誤差は、サンプリング間隔内でサンプルの異なる組を使用して計算される。
Claim (excerpt)：
干渉計と、検出器と、デジタルプロセッサと、を有するステップ走査フーリエ変換分光計にあって、変調信号の変調位相および変調周波数を抽出するためのデジタル方法において、検出器からのアナログ信号出力に対応する一連の離散したデジタル値を獲得し、前記一連の離散値はサンプリング間隔にわたる時間依存性を有し、前記時間依存性は変調信号から生ずる成分を含み、第1の位相誤差を決定するために少なくともいくつかの離散値を処理するため、名目的変調周波数において名目的変調信号を使用し、第1の洗練された変調周波数を提供するために第1の位相誤差および名目的変調周波数を使用するという各ステップを有する方法。
IPC (6)：
G01J 3/45 ,  G01B 9/02 ,  G01N 21/19 ,  G01N 21/21 ,  G01N 21/27 ,  G01N 21/35
FI (6)：
G01J 3/45 ,  G01B 9/02 ,  G01N 21/19 ,  G01N 21/21 Z ,  G01N 21/27 Z ,  G01N 21/35 Z
F-Term (47)：
2F064AA15 ,  2F064BB05 ,  2F064EE01 ,  2F064FF01 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG51 ,  2F064GG70 ,  2F064HH01 ,  2F064HH05 ,  2F064JJ00 ,  2F064JJ15 ,  2G020AA03 ,  2G020CA12 ,  2G020CB05 ,  2G020CB23 ,  2G020CB42 ,  2G020CC22 ,  2G020CC47 ,  2G020CC52 ,  2G020CD03 ,  2G020CD12 ,  2G020CD13 ,  2G020CD15 ,  2G020CD16 ,  2G020CD22 ,  2G020CD33 ,  2G020CD34 ,  2G020CD35 ,  2G020CD38 ,  2G059AA02 ,  2G059EE05 ,  2G059EE10 ,  2G059EE12 ,  2G059FF08 ,  2G059GG01 ,  2G059GG03 ,  2G059GG06 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ22 ,  2G059JJ23 ,  2G059KK01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM03 ,  2G059MM14 ,  2G059MM17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 偏光変調赤外分光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-209154   Applicant：株式会社日立製作所
  • 特開平2-276928
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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