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J-GLOBAL ID:200903090336341315
ガラス膜作製装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
津川 友士
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993186483
Publication number (International publication number):1995041953
Application date: Jul. 28, 1993
Publication date: Feb. 10, 1995
Summary:
【要約】【目的】 不純物が著しく少ないガラス膜を基板上に作製するとともに、ガラス膜の基板に対する付着力を高める。【構成】 反応容器1の内部にカーボン製のヒータ2,2b,2cを配置して基板3を十分に高い温度に加熱し、反応容器1内にプラズマを発生させるための誘導コイル4を反応容器1の外部に配置した。
Claim (excerpt):
減圧プラズマCVD法によりガラス膜を作製する装置であって、ガラス膜作製のための反応性ガスが導入される反応容器(1)の内部所定位置に、基板(3)を加熱するカーボン製のヒータ(2)が配置されてあるとともに、反応容器(1)の外周所定位置にプラズマ発生用の誘導コイル(4)が配置されてあることを特徴とするガラス膜作製装置。
IPC (3):
C23C 16/50
, C23C 16/30
, G02B 6/13
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