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J-GLOBAL ID：200903090337496576

液浸式露光装置

Inventor：
森 直

About 森 直


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (2)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004114270
Publication number (International publication number)：2005302880
Application date： Apr. 08, 2004
Publication date： Oct. 27, 2005
Summary：
【課題】 ウエハ裏面に液体が残ることを低減することを可能とした露光装置を提供すること。【解決手段】 レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系と前記基板との間の液体を介して、前記基板を露光する露光装置において、前記基板を保持するためのチャックと、前記基板の表面と略同じ高さの表面を持ち、該基板と共に前記液体を保持する液体保持部と、を有し、前記液体保持部の前記チャック側の側壁の疎水性は、前記液体保持部の該側壁の周辺の疎水性よりも高いことを特徴とする構成とした。【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系と前記基板との間の液体を介して、前記基板を露光する露光装置において、 前記基板を保持するためのチャックと、 前記基板の表面と略同じ高さの表面を持ち、該基板と共に前記液体を保持する液体保持部と、を有し、 前記液体保持部の前記チャック側の側壁の疎水性は、前記液体保持部の該側壁の周辺の疎水性よりも高いことを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 501
F-Term (8)：
2H097BA10 ,  2H097EA01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 米国特許第5121256号明細書
  • 欧州特許出願公開第0023231明細書
  • 液浸式投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-296518   Applicant：キヤノン株式会社
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Cited by examiner (1)

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