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J-GLOBAL ID：200903090338628557

露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法

Inventor： 太田 和哉
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 志賀 正武 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999094315
Publication number (International publication number)：2000286189
Application date： Mar. 31, 1999
Publication date： Oct. 13, 2000
Summary：

【要約】【課題】 投影光学系に変動が生じた場合にも、それを補正して、露光性能を維持することのできる露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 露光装置10では、投影光学系POを構成する第1ミラーM1、第2ミラーM2、第3ミラーM3、第4ミラーM4の位置や傾き、形状等の位置情報をミラーモニター機構80で計測し、得られた位置情報に基づき、補正機構であるアクチュエータで、第1ミラーM1、第2ミラーM2、第3ミラーM3、第4ミラーM4の位置や傾き、形状等を補正する構成とした。

Claim (excerpt)：

マスクに形成されたパターンを露光光で照明し、投影光学系を介して基板上に転写する露光装置であって、前記投影光学系は、少なくとも一つの反射型光学素子を有し、かつ前記反射型光学素子における前記露光光の照射位置での位置情報を検出する検出手段と、前記位置情報に基づき前記光学素子を補正する補正手段とを備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503

FI (2)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503

F-Term (28)：

2H097AB09 ,  2H097BB10 ,  2H097CA13 ,  2H097CA15 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC16 ,  5F046CC18 ,  5F046DA05 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046EA02 ,  5F046EB03 ,  5F046FA03 ,  5F046FA17 ,  5F046GA03 ,  5F046GA06 ,  5F046GA11 ,  5F046GA12 ,  5F046GA14 ,  5F046GA18 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03 ,  5F046GD10