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J-GLOBAL ID：200903090342663782
荷電粒子流照射装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991232272
Publication number (International publication number)：1993047870
Application date： Aug. 20, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 絶縁体試料表面の帯電を防止することを可能にした荷電粒子流照射装置を提供することを目的としている。【構成】 内部を減圧可能な容器101と、容器101内に配設される保持部上の被照射物103に向けて荷電粒子流を照射するための照射手段102とを備えて成る荷電粒子照射装置において、前記容器内に導入されるガス体に紫外光を投光するための投光手段105を設けたことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
内部を減圧可能な容器と、容器内に配設される保持部上の被照射物に向けて荷電粒子流を照射するための照射手段とを備えて成る荷電粒子照射装置において、前記容器内に導入されるガス体に紫外光を投光するための投光手段を設けたことを特徴とする荷電粒子流照射装置。
Patent cited by the Patent：
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