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J-GLOBAL ID：200903090354673422
微細構造体の形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992340180
Publication number (International publication number)：1994188175
Application date： Dec. 21, 1992
Publication date： Jul. 08, 1994
Summary：
【要約】【目的】 傾斜側面を有する溝を含む微細構造体の形成方法を提供する。【構成】 基板9上にレジスト層10を形成し、シンクロトロン放射光(SR光)を用いてレジスト層10を露光する際に、マスク8の表面上に傾斜した側面7aを有する吸収体7を形成し、傾斜した側面7aを有する吸収体7が形成されたマスク8を用いて、シンクロトロン放射光によりレジスト層10を露光する。次に、露光したレジスト層10を現像することにより、開口部を有するレジストパターン11を形成し、開口部に埋め込まれるように材料を基板1上に堆積する。
Claim (excerpt)：
傾斜側面を有する溝を含む微細構造体の形成方法であって、基板上にレジスト層を形成する工程と、表面上に傾斜した側面を有する吸収体を備えたマスクを介して、光を用いて前記レジスト層を露光する工程と、前記露光したレジスト層を現像して、前記マスクの吸収体の傾斜側面に対応する傾斜側面を有する開口部を含むレジストパターンを形成する工程と、前記開口部に埋め込まれるように材料を堆積する工程とを備えた、微細構造体の形成方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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