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J-GLOBAL ID：200903090364117684

X線マスク又はX線マスク材料の支持体用ガラス、X線マスク材料及びX線マスク

Inventor： 笑喜 勉 ,  大久保 亮 ,  山口 洋一
Applicant, Patent owner： ホーヤ株式会社
Agent (1)： 塩澤 寿夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994055742
Publication number (International publication number)：1995263318
Application date： Mar. 25, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 200°C以下の温度でシリコン基板との陽極接合が可能であり、好ましくは陽極接合後に面内歪みを生じにくい、X線マスク材料及びX線マスクの支持体用ガラス、並びにこのガラスを用いたX線マスク材料及びX線マスクの提供。【構成】 20°Cにおいて1×1013〜1×105 Ω・cmの範囲の体積抵抗率を有するガラスであるX線マスク材料及びX線マスクの支持体用ガラス。β-ユークリブタイト、β-石英固溶体又はこの両者を含有するアルミノケイ酸ガラスであるX線マスク材料及びX線マスクの支持体用ガラス。前記ガラスであって、好ましくは、陽極接合温度帯域において、シリコンの熱膨張による伸び率と実質的に等しい熱膨張による伸び率を有するガラス。前記ガラスを支持体として用いたX線マスク材料及びX線マスク。

Claim (excerpt)：

20°Cで1×1013〜1×105 Ω・cmの範囲の体積抵抗率を有するガラスであることを特徴とするX線マスク又はX線マスク材料の支持体用ガラス。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  C03C 10/12 ,  C03C 10/14 ,  G03F 1/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-330711
  
• ガラスセラミックス及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-217419   Applicant：三井鉱山株式会社
• 複合ガラス粉末を製造する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-314264   Applicant：カール-ツァイス-スティフツング