オルガノシリコンの側鎖を含むターポリマーおよびレリーフ構造を作成するためのその使用

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高木千嘉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996208028
Publication number (International publication number)：1997110938
Application date： Aug. 07, 1996
Publication date： Apr. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】新規なターポリマーとその用途。【解決手段】このターポリマーは式(I)の繰返し構造単位の20〜70モル%、式(II)の繰返し構造単位および式(III)の繰返し構造単位の3〜40モル%を含有する。【化1】ここでAは単結合手またはつぎの式の基を示し:【化2】R1は水素原子またはメチル基を示し:R2は2-フラニルオキシ基または2-ピラニルオキシ基などを示し:R3は式-COOHまたは-CNの基を示し:R4はつぎの式の各基から選ばれる基を示し:【化3】Yは水素原子または塩素原子またはメチル基を示し、Zは式-OSi(CH3)3の基を示し、mは1、2または3を示し、nは3-mを示し、そしてpは0、1、2または3を示し、そしてここで式(III)の多数の構造単位はターポリマー中のシリコン含有量が、7〜20重量%の量となる程度に含まれる。このターポリマーはポジ型のホトレジストの製作のために用いられる。

Claim (excerpt)：

式(I)の繰返し構造単位の20〜70モル%と、式(II)および式(III)の繰返し構造単位の3〜40モル%とを含有するターポリマー。【化1】ここでAは直接の単結合手またはつぎの式の基を示し:【化2】R1は水素原子またはメチル基を示し、R2は2-フラニルオキシ基または2-ピラニルオキシ基またはつぎの式の基を示し:【化3】R3はつぎの式の基を示し:-COOH または -CNR4はつぎの式の基から選ばれる基を示し:【化4】R5、R6およびR7は各々C1〜C6のアルキル基またはフェニル基を示し:Yは水素原子または塩素原子またはメチル基を示し:Zは式-OSi(CH3)3の基を示し:mは1、2または3を示し:nは3-mの数を示し:そしてpは0、1、2または3を示し:そしてここで式(III)の多数の構造単位はターポリマー中のシリコン含有量が、7〜20重量%の量となる程度に含まれる。

IPC (14)：

C08F216/16 MKY , C08F216/38 MLC , C08F220/06 MLQ , C08F220/06 MLR , C08F220/06 MLS , C08F220/30 MMK , C08F220/44 MMY , C08F230/08 MNU , C09D129/10 PFP , C09D129/14 PFQ , C09D133/06 PFY , C09D143/04 PGL , G03F 7/039 501 , G03F 7/075 511

FI (14)：

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