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J-GLOBAL ID：200903090396309135

光磁気ディスクの製造方法

Inventor： 菊地 稔 ,  中野 淳
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994194032
Publication number (International publication number)：1996063815
Application date： Aug. 18, 1994
Publication date： Mar. 08, 1996
Summary：

【要約】【目的】 記録エリアを広くとることができ、高記録容量化を可能とする光磁気ディスクを製造する。【構成】 紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布し、紫外線硬化型樹脂塗膜5の最外周部の盛り上がり部分6を平坦化した後、硬化して保護膜を形成する。このとき、ノズル7により内周側から紫外線硬化型樹脂塗膜5の最外周部の盛り上がり部分6に向けて気体を吹き付けても良い。或いは紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上がり部分を吸引しても良く、また上記手段を併用しても良い。

Claim (excerpt)：

基板上に少なくとも記録磁性膜を形成し、その上に紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング法により塗布し、紫外線硬化型樹脂塗膜を硬化させて保護膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、紫外線硬化型樹脂の塗布後に紫外線硬化型樹脂塗膜の最外周部の盛り上がり部分を平坦化することを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。