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J-GLOBAL ID:200903090408571396

液晶表示素子の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 敬四郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996132039
Publication number (International publication number):1997318946
Application date: May. 27, 1996
Publication date: Dec. 12, 1997
Summary:
【要約】【課題】 液晶表示素子の製造方法に関し、光配向処理により十分大きな角度のプレチルトを与える配向処理をより短時間で簡単に行うことを課題とする。【解決手段】 偏光を吸収すると、偏光方向に対してある方向に液晶分子を配向させる性質を生じる光偏光記憶膜を表面に形成した基板を準備する工程と、非偏光を前記基板の面に対して斜めの方向から前記光偏光記憶膜に照射して前記光偏光記憶膜に吸収させる配向処理工程と、前記配向処理工程により配向処理をした基板をすくなくとも一方に含む一対の基板を対向配置して液晶セルを作製し、該液晶セルに液晶材料を注入する工程とを有する。
Claim (excerpt):
偏光を吸収すると、偏光方向に対してある方向に液晶分子を配向させる性質を生じる光偏光記憶膜を表面に形成した基板を準備する工程と、非偏光を前記基板の面に対して斜めの方向から前記光偏光記憶膜に照射して前記光偏光記憶膜に吸収させる配向処理工程と、前記配向処理工程により配向処理をした基板をすくなくとも一方に含む一対の基板を対向配置して液晶セルを作製し、該液晶セルに液晶材料を注入する工程とを有する液晶表示素子の製造方法。
IPC (2):
G02F 1/1337 505 ,  G02F 1/1335 510
FI (2):
G02F 1/1337 505 ,  G02F 1/1335 510
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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