投影露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993100621
Publication number (International publication number)：1994310399
Application date： Apr. 27, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】スリットスキャン露光方式の投影露光装置において、レチクルからウエハへの走査方向の投影倍率と、非走査方向の投影倍率とを独立に補正する。【構成】投影光学系18の投影倍率を補正する結像特性補正手段と、レチクル11とウエハ19との相対速度を補正するステージ相対速度補正手段とを設け、投影光学系18のその走査方向(X方向)に垂直な方向の倍率誤差を結像特性補正手段により補正し、投影光学系18の走査方向の倍率誤差をステージ相対速度補正手段によりレチクル11に対するウエハ19の相対速度(β0+α)を調整して補正する。

Claim (excerpt)：

露光光で所定形状の照明領域を照明する照明光学系と、前記照明領域に対して転写用のパターンが形成されたマスクを所定の走査方向に走査するマスクステージと、前記照明領域内の前記マスクのパターン像を感光性の基板上に投影する投影光学系と、前記基板を保持して前記基板を前記マスクの走査と同期して前記走査方向と共役な方向に走査する基板ステージとを有し、前記所定形状の照明領域に対して前記マスク及び前記基板を相対的に走査することにより、前記マスクのパターン像を逐次前記基板上に露光する装置において、前記投影光学系の投影倍率を補正する結像特性補正手段と、前記マスクステージと前記基板ステージとの相対速度を補正するステージ相対速度補正手段とを設け、前記投影光学系の前記走査方向に垂直な方向の倍率誤差を前記結像特性補正手段により補正し、前記投影光学系の前記走査方向の倍率誤差を前記ステージ相対速度補正手段により前記マスクステージと前記基板ステージとの相対速度を調整して補正することを特徴とする投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

特開昭58-116735
特開昭63-128713
特開平3-068185

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