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J-GLOBAL ID:200903090485181797

位置規則性ポリマーの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 葛和 清司
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006522288
Publication number (International publication number):2007501300
Application date: Jul. 28, 2004
Publication date: Jan. 25, 2007
Summary:
本発明は、位置規則性ポリマー、特に高い位置規則性を有する頭-尾(HT)ポリ(3-置換)チオフェンの、製造方法、この方法により製造される新規なポリマー、新規なポリマーの使用であって、電界効果トランジスタ(FET)、電子発光、光起電もしくはセンサーデバイスを含む、光学、電気光学もしくは電子デバイスにおける半導体または電荷輸送材料としての前記使用、新規なポリマーを含むFETおよび他の半導体部品または材料、ポリマーをエンドキャッピングする方法、ならびにこれにより得られるエンドキャップポリマーおよびそれらの上記デバイスにおける使用に関する。
Claim (excerpt):
95%以上の頭-尾(HT)結合の位置規則性を有する位置規則性ポリ(3-置換チオフェン)の製造方法であって、クロロおよび/またはブロモ基を2位および5位に有する3-置換チオフェンを供給すること、該チオフェンを、直鎖エーテルまたは直鎖エーテルの混合物を含む溶媒中でマグネシウムと反応させて、位置化学性グリニャール中間体または位置化学性グリニャール中間体の混合物を形成すること、および該グリニャール中間体を、好適な触媒を加えることにより重合することによる、前記方法。
IPC (2):
C08G 61/12 ,  H01L 51/50
FI (4):
C08G61/12 ,  H05B33/14 B ,  H05B33/22 B ,  H05B33/22 D
F-Term (17):
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107BB03 ,  3K107DD60 ,  3K107DD68 ,  3K107DD69 ,  3K107DD70 ,  3K107DD71 ,  3K107DD74 ,  3K107DD79 ,  3K107GG06 ,  4J032BA04 ,  4J032BB01 ,  4J032BC03 ,  4J032BC13 ,  4J032BD05 ,  4J032CG01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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