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J-GLOBAL ID：200903090497251413

高純度トリアリールホウ素のアルキル化あるいはアリール化アルカリ金属とのアート錯体の製造法

Inventor： 池田 喜彦 ,  山根 猛夫 ,  加地 栄一 ,  石丸 研二
Applicant, Patent owner： 東ソー・アクゾ株式会社
Agent (1)： 箕浦 清
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993287711
Publication number (International publication number)：1994199872
Application date： Oct. 22, 1993
Publication date： Jul. 19, 1994
Summary：

【要約】【構成】 ハロゲン化アリールマグネシウムとハロゲン化ホウ素より得られるトリアリールホウ素から副生するマグネシウム塩と未反応のハロゲン化アリールマグネシウムを充分に除去した後炭化水素系溶媒、鎖状エーテル系溶媒あるいはその混合溶媒からなる溶液中にアルキル化あるいはアリール化アルカリ金属の炭化水素系溶媒、鎖状エーテル系溶媒あるいはその混合溶媒からなる溶液を-80〜25°Cの温度範囲を保ちながら滴下し、反応させることによって高純度のトリアリールホウ素のアルキル化あるいはアリール化アルカリ金属とのアート錯体を生成する製法。【効果】 トリアリールホウ素のアルキル化あるいはアリール化アルカリ金属とのアート錯体の高純度品を安定的に製造することが可能となる。

Claim (excerpt)：

ハロゲン化アリールマグネシウムとハロゲン化ホウ素より得られるトリアリールホウ素から充分に副生するマグネシウム塩と未反応のハロゲン化アリールマグネシウムを除去した後炭化水素溶媒、鎖状エーテル系溶媒あるいはその混合溶媒からなる溶液中にアルキル化あるいはアリール化アルカリ金属の炭化水素系溶媒、鎖状エーテル系溶媒あるいはその混合溶媒からなる溶液を-80〜25°Cの温度範囲を保ちながら滴下し、反応させることによって高純度のトリアリールホウ素のアルキル化あるいはアリール化アルカリ金属とのアート錯体を生成することを特徴とする製法。