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J-GLOBAL ID：200903090546316518

水処理プロセスの制御方法および装置

Inventor： 圓佛 伊智朗 ,  渡辺 昭二 ,  原 直樹
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高田 幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999215958
Publication number (International publication number)：2001038343
Application date： Jul. 29, 1999
Publication date： Feb. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】本発明の目的は、被処理水質によって操作量を決定する運転操作モデルの信頼性が十分でない場合にも安定した処理水質を維持できる水処理プロセスの制御方法および装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、運転操作モデル200で被処理水水質により水処理プロセス10の設定操作量Dを求めると共に、シミュレータ100で水処理プロセス10の実操作量D*により推定処理水質Cを求め、操作量決定部300において予め定めた目標処理水質Cと推定処理水質C*の偏差Eによって設定操作量Dを補正して水処理プロセス10の実操作量D*を求める。

Claim (excerpt)：

被処理水に水処理操作を行い処理する水処理プロセスであって、前記被処理水水質によって前記水処理操作の設定操作量を求めると共に、前記被処理水水質と前記水処理操作の実操作量によって前記水処理プロセスの推定処理水質を求め、予め定めた目標処理水質と前記推定処理水質の差によって前記設定操作量を補正して前記水処理操作の実操作量にするようにしたことを特徴とする水処理プロセスの制御方法。

IPC (2)：

C02F 1/00 ,  C02F 1/52

FI (2)：

C02F 1/00 D ,  C02F 1/52 K

F-Term (4)：

4D062BA21 ,  4D062CA14 ,  4D062EA03 ,  4D062EA32