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J-GLOBAL ID:200903090589586454

エタンを接触酸化する酢酸の選択的製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 江崎 光史 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000516936
Publication number (International publication number):2001520976
Application date: Oct. 09, 1998
Publication date: Nov. 06, 2001
Summary:
【要約】【解決手段】本発明は、エタン、エチレンまたはそれらの混合物と酸素とより成るガス状供給原料から高められた温度で酢酸を製造する選択的方法に関する。上記供給原料を、Mo、Pd,XおよびY元素を酸素と組み合わせてa:b:c:dのグラム原子比で含有する下記式 Moa Pdb Xc Yd (I)[式中、XはCr、Mn、Nb、Ta、Ti、V、TeおよびWより成る群から選択される1種類以上の元素であり;YはB、Al、Ga、In、Pt、Zn、Cd、Bi、Ce、Co、Rh、Ir、Cu、Ag、Au、Fe、Ru、Os、K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Nb、Zr、Hf、Ni、P、Pb、Sb、Si、Sn、TlおよびUより成る群から選択される1種類以上の元素であり、指数a、b、c、dおよびxは相応する元素のグラム原子比であり、即ちaは1であり、bは0.0001〜0.01であり、cは0.4〜1であり、そしてdは0.005〜1である。]で表される触媒と接触させる。本発明の方法を用いて酢酸に酸化する際の空時得率が>150kg/時・m3 である。エタン/エチレンを酢酸に酸化する反応の選択率は≧70モル%であるのが好ましい。
Claim (excerpt):
エタン、エチレンまたはそれらの混合物と酸素とより成るガ ス状供給原料から高められた温度で酢酸を製造する方法において、Mo、Pd 、XおよびY元素を酸素と組み合わせてa:b:c:dのグラム原子比で含有 する下記式 Moa Pdb Xc Yd (I) [式中、記号XおよびYは以下の意味を有し: XはCr、Mn、Nb、Ta、Ti、V、TeおよびWより成る群から選択 される1種類以上の元素であり;、 YはB、Al、Ga、In、Pt、Zn、Cd、Bi、Ce、Co、Rh、 Ir、Cu、Ag、Au、Fe、Ru、Os、K、Rb、Cs、Mg、Ca、 Sr、Ba、Nb、Zr、Hf、Ni、P、Pb、Sb、Si、Sn、Tlお よびUより成る群から選択される1種類以上の元素であり、 指数a、b、c、dおよびxは相応する元素のグラム原子比であり、かつ aは1であり、 bは0.0001〜0.01であり、 cは0.4〜1であり、そして dは0.005〜1である。] で表されそして酢酸に酸化する際の空時得率が>150kg/時・m3 である 触媒に前記ガス状供給原料を接触させることを特徴とする、上記方法。
IPC (5):
C07C 51/215 ,  B01J 23/652 ,  C07C 51/25 ,  C07C 53/08 ,  C07B 61/00 300
FI (5):
C07C 51/215 ,  C07C 51/25 ,  C07C 53/08 ,  C07B 61/00 300 ,  B01J 23/64 103
F-Term (117):
4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069BA01A ,  4G069BA02A ,  4G069BA04A ,  4G069BA05A ,  4G069BA08A ,  4G069BA09A ,  4G069BA14A ,  4G069BA15A ,  4G069BA17 ,  4G069BB01A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BB11A ,  4G069BB14A ,  4G069BB15A ,  4G069BC03A ,  4G069BC05A ,  4G069BC06A ,  4G069BC09A ,  4G069BC09B ,  4G069BC10A ,  4G069BC12A ,  4G069BC13A ,  4G069BC16A ,  4G069BC17A ,  4G069BC18A ,  4G069BC19A ,  4G069BC21A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC26A ,  4G069BC26B ,  4G069BC31A ,  4G069BC32A ,  4G069BC33A ,  4G069BC35A ,  4G069BC36A ,  4G069BC42A ,  4G069BC43A ,  4G069BC46A ,  4G069BC47A ,  4G069BC50A ,  4G069BC51A ,  4G069BC52A ,  4G069BC54A ,  4G069BC54B ,  4G069BC55A ,  4G069BC55B ,  4G069BC56A ,  4G069BC58A ,  4G069BC59A ,  4G069BC59B ,  4G069BC60A ,  4G069BC62A ,  4G069BC66A ,  4G069BC67A ,  4G069BC68A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC72B ,  4G069BC73A ,  4G069BC74A ,  4G069BC75A ,  4G069BD02A ,  4G069BD03A ,  4G069BD05A ,  4G069BD07A ,  4G069BD10A ,  4G069CB07 ,  4G069CB74 ,  4G069DA06 ,  4G069DA07 ,  4G069EA01Y ,  4G069EA02Y ,  4G069EA03X ,  4G069EA09 ,  4G069EA12 ,  4G069EB18Y ,  4G069EC02Y ,  4G069FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AC46 ,  4H006BA02 ,  4H006BA04 ,  4H006BA05 ,  4H006BA06 ,  4H006BA07 ,  4H006BA08 ,  4H006BA09 ,  4H006BA10 ,  4H006BA12 ,  4H006BA13 ,  4H006BA14 ,  4H006BA15 ,  4H006BA16 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA22 ,  4H006BA23 ,  4H006BA24 ,  4H006BA25 ,  4H006BA26 ,  4H006BA31 ,  4H006BA35 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC18 ,  4H006BC32 ,  4H006BE30 ,  4H006BS10 ,  4H039CA65 ,  4H039CC30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 酢酸の製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-220683   Applicant:昭和電工株式会社

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