X線マスク及びX線マスク材料

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992228024
Publication number (International publication number)：1994061125
Application date： Aug. 04, 1992
Publication date： Mar. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 X線吸収膜をエッチングによりパターン形成する際、X線透過膜がエッチングされるのを防止し、かつ、酸性溶液による洗浄でも溶解しにくくX線吸収膜パターンが崩れるのを防止することのできる保護膜を備えたX線マスクを提供することである。【構成】 X線透過膜2と、このX線透過膜の一主表面を被覆する酸化アルミニウム及び酸化錫を含有する保護膜3と、保護膜3の上に設けられたX線吸収膜パターン4’と、前記X線透過膜を支える基板1と、を備えていることを特徴とするX線マスク。

Claim (excerpt)：

X線透過膜と、このX線透過膜の一主表面を被覆する酸化アルミニウム及び酸化錫を含有する保護膜と、この保護膜の上に設けられたX線吸収膜パターンと、前記X線透過膜を支える基板と、を備えていることを特徴とするX線マスク。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平3-257814
特開昭58-215028
特開平4-130712

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