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J-GLOBAL ID：200903090601698867

パターン検査方法及び装置

Inventor： 増田 聡
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992324548
Publication number (International publication number)：1994175353
Application date： Dec. 04, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：

【要約】【目的】ハーフトーン型位相シフトマスクのパターンの欠陥を高感度に検出でき、しかもマスク上での検出感度が一様な検査方法および装置を提供することである。【構成】遮光パターンを形成する半透明膜と完全遮光膜それぞれの図形データ11と12を元にハーフトーン型位相シフトマスク19からの透過光を受光するラインセンサ21の画素に対応するパターンデータをパターンデータ発生回路16で生成する。また、図形データをマトリクス状メモリ13に展開してパターン線幅を線幅判定回路14で判定し、線幅が所定値以下の部分のパターンデータを半透明膜の光透過率に応じて補正する。そして、補正されたパターンデータとラインセンサの出力信号を比較回路22で比較してパターン検査を行う。

Claim (excerpt)：

ハーフトーン型位相シフトマスクのパターンの描画に使用した図形データからパターンデータを作成し、パターンが半透明膜により構成されている部分ではその半透明膜の光透過率に応じて上記パターンデータを補正しながら位相シフトマスクからの透過光の強さとパターンデータとの比較により位相シフトマスクのパターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027