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J-GLOBAL ID：200903090605197102

光導波路ならびに光電子混在基板

Inventor： 金子 勝弘 ,  上野 由里子 ,  山地 徳一 ,  棚橋 成夫
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997094040
Publication number (International publication number)：1998282351
Application date： Apr. 11, 1997
Publication date： Oct. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高温プロセスを必要とせずに形成でき、クロストークの発生を十分に防止できる光導波路を得る。【解決手段】 クラッド部8内にコア部6が形成されるとともにクラッド部8の外表面が金属膜11で被覆した光導波路12である。また、基板上に、クラッド部内にコア部が形成されクラッド部の外表面を金属膜で被覆した光導波路と、光電子変換素子と電子回路とを組み合わせて成る光電集積回路もしくは光集積回路と、集積回路または高周波電気回路とにより光電子混在基板を構成する。クロストークの発生をほぼ完全に防止でき、高品質の信号変換および光信号伝送が可能であり、高温プロセスを必要としないため通常の各種の電気回路基板を用いることができる。

Claim (excerpt)：

クラッド部内にコア部が形成されるとともに前記クラッド部の外表面が金属膜で被覆されていることを特徴とする光導波路。

IPC (3)：

G02B 6/122 ,  G02B 6/02 ,  G02B 6/42

FI (3)：

G02B 6/12 A ,  G02B 6/02 C ,  G02B 6/42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-090108
  
• 特開平4-263206
  
• 特開平2-090108
  
• 特開平4-263206