Pat

J-GLOBAL ID：200903090617043801

光感応性酸発生剤およびそれらを含むフォトレジスト

Inventor： ジェームズ エフ キャメロン ,  トーマス エム ジドウスキー
Applicant, Patent owner： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
Agent (1)： 佐伯 憲生
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002545309
Publication number (International publication number)：2004531749
Application date： Nov. 03, 2001
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：

本発明は、新規な光感応性酸発生剤化合物(PAGs)およびそれらの化合物を含むフォトレジスト組成物に関する。詳しくは、本発明は、放射線で露光されることによりα, α-ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる光感応性酸発生剤化合物に関する。このようなPAGsを含むポジ型およびネガ型の化学的に増幅されたレジストが特に好まれている。本発明はまたこのようなPAGsおよびα, α-ジフルオロアルキルスルホン酸の合成方法も含む。

Claim (excerpt)：

組成物の露光されたコーティング層を現像させるのに充分な量で樹脂バインダおよび光感応性酸発生剤化合物を含み、その光感応性酸発生剤が放射線で露光されることによりα, α-ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる、フォトレジスト組成物。

IPC (9)：

G03F7/004 ,  C07C17/263 ,  C07C22/08 ,  C07C303/20 ,  C07C309/24 ,  C09K3/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (9)：

G03F7/004 503A ,  C07C17/263 ,  C07C22/08 ,  C07C303/20 ,  C07C309/24 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (19)：

2H025AA02 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CC17 ,  4H006AA02 ,  4H006AC22 ,  4H006AC61 ,  4H006BA53 ,  4H006BE63 ,  4H039CA21 ,  4H039CD40 ,  4H039CD90