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J-GLOBAL ID：200903090634173484

多層光学干渉薄膜の膜厚制御方法

Inventor： 香川 昌義
Applicant, Patent owner： 日本真空光学株式会社
Agent (1)： 佐藤 文男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999362095
Publication number (International publication number)：2001174628
Application date： Dec. 21, 1999
Publication date： Jun. 29, 2001
Summary：

【要約】【課題】 多層光学干渉薄膜の膜厚制御方法において、光電式膜厚制御法では高精度な膜厚制御が困難な、透過率もしくは反射率の変化量が小さい場合でも正確な膜厚制御を行なおうとする。【解決手段】 多層光学干渉膜を基体上に形成する際に用いられる膜厚制御方法において、光電式膜厚制御と水晶振動子による膜厚制御とを組み合わせて行う。すなわち、光電式膜厚制御では高精度な膜厚制御が困難となる層の構成の場合に、水晶振動子による膜厚制御を行い、あるいは光電式膜厚制御と水晶振動子による膜厚制御とを交互に行うものである。

Claim (excerpt)：

多層光学干渉膜を基体上に形成する際に用いられる膜厚制御方法において、光電式膜厚制御と水晶振動子による膜厚制御とを組み合わせて行うことを特徴とする多層光学干渉薄膜の膜厚制御方法

F-Term (5)：

2H048GA04 ,  2H048GA13 ,  2H048GA34 ,  2H048GA55 ,  2H048GA60