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J-GLOBAL ID：200903090641188527

スパッタリング方法及びスパッタリングターゲット

Inventor： 高橋 秀行 ,  矢作 政隆
Applicant, Patent owner： 株式会社日鉱マテリアルズ
Agent (1)： 小越 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002329159
Publication number (International publication number)：2004162115
Application date： Nov. 13, 2002
Publication date： Jun. 10, 2004
Summary：

【課題】多種類の組成の物質を個別に製造することなく、簡単な操作で同心円形に傾斜的成分(異なる組成割合である)の物質を製作し、この同心円形の成膜物質の組成変化とそれに対応した物質特性を測定又は調査することができるスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】異なる物質又は異なる物質を含む成分組成を同心円形に隣接させた一体型ターゲットを同時スパッタリングすることにより、基板上にこれらの物質又は成分組成を同心円形に任意の混合比率で含有するスパッタ膜を形成するスパッタリング方法及びスパッタリング時に基板上に異なる物質又は異なる物質を含む成分組成を同心円形に任意の混合比率で含有するスパッタ膜を形成することができる、異なる物質又は異なる物質を含む成分組成を同心円形に隣接させた一体型ターゲットであるスパッタリングターゲット。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

同心円形に異なる物質又は異なる物質を含む成分組成を隣接させた一体型ターゲットを同時スパッタリングすることにより、基板上にこれらの物質又は成分組成を任意の混合比率で含有するスパッタ膜を形成することを特徴とするスパッタリング方法。

IPC (3)：

C23C14/34 ,  G11B5/851 ,  G11B7/26

FI (3)：

C23C14/34 A ,  G11B5/851 ,  G11B7/26 531

F-Term (15)：

4K029CA05 ,  4K029DC15 ,  5D112AA05 ,  5D112AA24 ,  5D112BB02 ,  5D112BB05 ,  5D112FA04 ,  5D112FB02 ,  5D112FB05 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE09 ,  5D121EE10 ,  5D121EE13 ,  5D121EE15