Pat

J-GLOBAL ID：200903090651298681

ハードディスク基板の研磨用組成物及びこれを用いた研磨方法

Inventor： 佐々木 一雄 ,  川島 雅博
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996194957
Publication number (International publication number)：1998036818
Application date： Jul. 24, 1996
Publication date： Feb. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 研削速度を向上し、高精度、高品質な研磨面が得られるハードディスクの研磨用組成物を提供する。【解決手段】 下記成分(A)〜(D)を含み、成分(B)研磨材の平均粒径が2.0μm以下であり、かつ、一次粒子状態に分散処理されてなるハードディスク基板の研磨用組成物。(A)水(B)研磨材(C)アルミニウム塩類及びニッケル塩類から選ばれる無機塩類(D)研削油 全組成物の1〜10重量%

Claim (excerpt)：

下記成分(A)〜(D)を含み、成分(B)研磨材の平均粒径が2.0μm以下であり、かつ、一次粒子状態に分散処理されてなるハードディスク基板の研磨用組成物。(A)水(B)研磨材(C)アルミニウム塩類及びニッケル塩類から選ばれた無機塩類(D)研削油 全組成物の1〜10重量%

IPC (4)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84

FI (4)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/84 A