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J-GLOBAL ID：200903090656630048

アミンおよびアミノニトリルの製法

Inventor： シュヌル,ヴェルナー ,  フォイト,グイド ,  フリック,クレーメンス ,  フィッシャー,ロルフ-ハルトムート
Applicant, Patent owner： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
Agent (1)： 田代 烝治 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997535824
Publication number (International publication number)：2000508304
Application date： Apr. 03, 1997
Publication date： Jul. 04, 2000
Summary：

【要約】炭素-窒素不飽和結合を少なくとも一個含む化合物を溶媒の存在又は非存在下、室温以上の温度および高い水素分圧で触媒の存在下に水素で水素化することによりNH2含有化合物を製造する方法であって、(a)コバルト含有触媒及び/又は鉄含有触媒を用いる工程(b)水素化すべき化合物に基づく転化率及び/又は所望の生成物に基づく選択率が、既定値以下となるか、或いは望まない副生成物の量が既定値を超えた後に、水素化すべき化合物及び使用されている場合には溶媒の供給を停止することにより水素化を抑制する工程(c)0.1から30MPaの水素圧、2から48時間の処理時間で水素を用い150°Cから400°Cにおいて上記触媒を処理する工程(d)その後に、炭素-窒素不飽和結合を少なくとも一個含む化合物の水素化を継続する工程を含むNH2含有化合物の製造方法。

Claim (excerpt)：

炭素-窒素不飽和結合を少なくとも一個含む化合物を溶媒の存在又は非存在下、室温以上の温度および高い水素分圧で触媒の存在下に水素で水素化することによりNH2含有化合物を製造する方法であって、(a)コバルト及び/又は鉄含有触媒を用いる工程(b)水素化すべき化合物に基づく転化率及び/又は所望の生成物に基づく選択率が、既定値以下となるか、或いは望まない副生成物の量が既定値を超えた後に、水素化すべき化合物及び使用されている場合には溶媒の供給を停止することにより水素化を抑制する工程(c)0.1から30MPaの水素圧、2から48時間の処理時間で水素を用い150°Cから400°Cにおいて上記触媒を処理する工程(d)その後に、炭素-窒素不飽和結合を少なくとも一個含む化合物の水素化を継続する工程を含むNH2含有化合物の製造方法。

IPC (10)：

C07C253/30 ,  B01J 23/78 ,  B01J 23/94 ,  B01J 27/187 ,  B01J 27/28 ,  B01J 38/10 ,  C07C209/48 ,  C07C211/12 ,  C07C255/24 ,  C07B 61/00 300

FI (10)：

C07C253/30 ,  B01J 23/78 Z ,  B01J 23/94 Z ,  B01J 27/187 Z ,  B01J 27/28 Z ,  B01J 38/10 B ,  C07C209/48 ,  C07C211/12 ,  C07C255/24 ,  C07B 61/00 300

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平3-047156
  
• 特開平3-026339
  
• 特開昭60-185748
  
• 特開平2-004449
  
• 特開昭49-022395