Pat

J-GLOBAL ID：200903090657689607

微細構造作製方法、微細構造作製装置

Inventor： 矢野 亨治 ,  岡本 康平
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 加藤 一男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003377639
Publication number (International publication number)：2005138440
Application date： Nov. 07, 2003
Publication date： Jun. 02, 2005
Summary：

【課題】充分微細な3次元構造物などを制御性良く作製できる微細構造作製方法、装置を提供することである。【解決手段】エバネッセント波206により固化する流体204に対して、エバネッセント波を所望の態様で発生させて流体206を所望のパターンで固化して微細構造を作製する。エバネッセント波206により流体204を固化する領域が、既に流体206が固化した領域208あるいは固体状態の部分209と繋がる様に、エバネッセント波206を発生させる領域と既に固化した領域208あるいは固体状態の部分209との距離を設定して、エバネッセント波206を発生させる。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

エバネッセント波により固化する流体に対して、前記エバネッセント波を所望の態様で発生させて流体を所望のパターンで固化して微細構造を作製する微細構造作製方法であって、前記エバネッセント波により流体を固化する領域が、既に流体が固化した領域あるいは固体状態の部分と繋がる様に、前記エバネッセント波を発生させる領域と前記既に固化した領域あるいは固体状態の部分との距離を設定して、前記エバネッセント波を発生させることを特徴とする微細構造作製方法。

IPC (1)：

B29C67/00

FI (1)：

B29C67/00

F-Term (43)：

4F213AA44 ,  4F213WA02 ,  4F213WA12 ,  4F213WA25 ,  4F213WA32 ,  4F213WA36 ,  4F213WA37 ,  4F213WA53 ,  4F213WA55 ,  4F213WA60 ,  4F213WA72 ,  4F213WA85 ,  4F213WA86 ,  4F213WA87 ,  4F213WB01 ,  4F213WB22 ,  4F213WE21 ,  4F213WF01 ,  4F213WF05 ,  4F213WF23 ,  4F213WK05 ,  4F213WL02 ,  4F213WL03 ,  4F213WL04 ,  4F213WL05 ,  4F213WL12 ,  4F213WL14 ,  4F213WL23 ,  4F213WL43 ,  4F213WL65 ,  4F213WL67 ,  4F213WL75 ,  4F213WL76 ,  4F213WL77 ,  4F213WL82 ,  4F213WL83 ,  4F213WL85 ,  4F213WL92 ,  4F213WL95 ,  4F213WW26 ,  4F213WW31 ,  4F213WW33 ,  4F213WW34

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開平2-36930号公報