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J-GLOBAL ID：200903090673792507

静電吸着装置及びその方法

Inventor： 伊藤 陽一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992195058
Publication number (International publication number)：1994045284
Application date： Jul. 22, 1992
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】プラズマにより処理されるウエハを支持する静電吸着装置において、ウエハを多段エッチングでスル-プットよく処理できる静電吸着装置およびその方法を提供することにある。【構成】タングステン電極10上に、SiO2膜11を表面に気相成長したSiC焼結体12をろう材13により接合して静電吸着電極14を構成する。そして、プロセス変更時にプラズマ6が消滅した際には静電吸着電極14の両端が開放状態に、最終のプロセスが終了した際には接地状態になるようにスイッチ16により操作する。

Claim (excerpt)：

プラズマにより処理されるウエハを絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持する静電吸着装置において、絶縁膜の表面または裏面にSiO2膜を気相成長させたことを特徴とする静電吸着装置。

IPC (4)：

H01L 21/302 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/68 ,  H02N 13/00