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J-GLOBAL ID：200903090712529096

ガス添加剤を含む狭帯域エキシマレーザー

Inventor： トーマス ホフマン ,  パラシュ ピー ダス ,  トシヒコ イシハラ ,  アレクサンダー アイ アーショフ
Applicant, Patent owner： サイマー インコーポレイテッド
Agent (1)： 中村 稔 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998289794
Publication number (International publication number)：1999191660
Application date： Oct. 12, 1998
Publication date： Jul. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】 エキシマレーザー、より詳細にはガス添加剤を含む狭帯域エキシマレーザーを提供することを目的とする。【解決手段】 フッ素相容性物質で構成されたレーザーチャンバーと、(1) 2つの長い電極と、(2) 少なくとも一つの予備イオン化装置と、(3) 全圧を規定し、第一の希ガス、フッ素、バッファーガス、および100ppm未満の安定化添加剤で構成されるレーザーガスとを含み、該安定化添加剤が、10 ppm未満の酸素および、ある量の、該第一の希ガスよりも重質の、第二の希ガスから選択されることを特徴とする、エキシマレーザー。

Claim (excerpt)：

フッ素相容性物質で構成されたレーザーチャンバーと、(1) 2つの長い電極と、(2) 少なくとも一つの予備イオン化装置と、(3) 全圧を規定し、第一の希ガス、フッ素、バッファーガス、および100ppm未満の安定化添加剤で構成されるレーザーガスとを含み、該安定化添加剤が、10 ppm未満の酸素および、ある量の、該第一の希ガスよりも重質の、第二の希ガスから選択されることを特徴とする、エキシマレーザー。