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J-GLOBAL ID：200903090727337355

厚膜無機複合酸化物

Inventor： 秋山 善一 ,  木村 祥子 ,  藤村 格
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 小松 秀岳 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991147454
Publication number (International publication number)：1993116913
Application date： Jun. 19, 1991
Publication date： May. 14, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基板上に膜厚1μm以上の無機複合酸化物が形成されている厚膜無機複合酸化物及びその作成方法を提供すること。【構成】 素子を形成する基板上に膜厚1μm以上の無機複合酸化物が形成されていることを特徴とする厚膜無機複合酸化物。

Claim (excerpt)：

素子を形成する基板上に膜厚1μm以上の無機複合酸化物が形成されていることを特徴とする厚膜無機複合酸化物。

IPC (5)：

C01B 13/32 ,  G02F 1/055 501 ,  H01B 3/00 ,  H01L 21/316 ,  H05K 3/28