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J-GLOBAL ID：200903090730342785
照射装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993006302
Publication number (International publication number)：1994215605
Application date： Jan. 19, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：
【要約】【目的】光源から全方向に照射された照射光を、効率よく被照射面に照射できる照射装置の提供する。【構成】楕円面反射鏡11の一方の焦点Dに配置した光源15からの照射光は、楕円面反射鏡11で集光し双曲面反射鏡12で照射方向を変えて、楕円面反射鏡11の光軸Oと双曲面反射鏡12との交点を含んで双曲面反射鏡12に形成された開口部101を通って、もう一つの焦点Eに集光する。
Claim (excerpt)：
光源と、光源を一部包囲し、光源からの照射光を集光する反射面が楕円面をなす楕円面反射鏡と、前記光源からの直射光の一部分および楕円面反射鏡からの反射光の一部分の照射方向を変える反射面が双曲面をなす双曲面反射鏡とを備え、前記光源を前記楕円面反射鏡の一方の焦点もしくは焦点近傍に置き、前記楕円面反射鏡が有する2つの焦点と前記双曲面反射鏡が有する2つの焦点とが同一もしくは略同一であるように配置したことを特徴とする照射装置。
IPC (3)：
F21V 7/07
, G02B 5/10
, F21M 1/00
