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J-GLOBAL ID：200903090747788264
ハードマスクの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
若林 忠 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997220428
Publication number (International publication number)：1999065095
Application date： Aug. 15, 1997
Publication date： Mar. 05, 1999
Summary：
【要約】【課題】 応力及び応力分布を十分に低減したハードマスクの製造方法を提供する。【解決手段】 パターンを形成するときに導電性を持つ塗布型の薄膜を用いることを特徴とするハードマスクの製造方法。
Claim (excerpt)：
パターンを形成するときに導電性を持つ塗布型の薄膜を用いることを特徴とするハードマスクの製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
G03F 1/16 A
, H01L 21/30 531 M
