Pat
J-GLOBAL ID:200903090765885269
エネルギー照射装置及び方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
合田 潔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995044252
Publication number (International publication number):1996262354
Application date: Mar. 03, 1995
Publication date: Oct. 11, 1996
Summary:
【要約】【目的】 高速で光の利用効率が高いエネルギー照射装置及び方法を提供する。【構成】 露光装置10は、レーザ発振器20、光学シャッタ22、結像レンズ24及び28、スクリーン26、垂直偏向装置30、水平偏向装置40、垂直移動装置50、液晶パネル60、及び制御装置70を含む。レーザ発振器20から射出した光ビームは、光学シャッタ22が開状態のときに通過し、結像レンズ24によって、スクリーン26上のスリット又はパターンを照射する。スリット又はパターンを通過した光は、結像レンズ28によって徐々に収束し、ガルバノ・ミラー32に入射する。ガルバノ・ミラー32は、ビームを垂直方向に所望の角度だけ偏向し、偏向されたビームはガルバノ・ミラー42に入射する。ガルバノ・ミラー42は、ビームを水平方向に所望の角度だけ偏向する。その後、ビームはステージ52上に配置された液晶パネル60の所望の位置に結像し、露光させる。
Claim (excerpt):
平面上に配置された対象物にエネルギーを照射する装置であって、(a)エネルギー・ビームを発生する手段と、(b)前記エネルギー・ビームのスポットを前記平面上の第1の方向に所定の範囲において移動させる手段と、(c)前記対象物を前記平面上の第2の方向に移動させる手段と、(d)前記エネルギー・ビームのスポットを前記第2の方向に、前記手段(c)による移動量だけ移動させる手段と、を有する、エネルギー照射装置。
IPC (4):
G02B 26/10
, G02B 26/10 104
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1337
FI (4):
G02B 26/10 C
, G02B 26/10 104
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1337
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
特開昭56-008110
-
特開昭55-153914
-
三次元立体造形装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-026255
Applicant:新日本製鐵株式会社
-
特開昭62-162547
-
液晶用配向膜の配向処理装置および方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-028661
Applicant:セイコー電子工業株式会社
-
特開昭62-069519
Show all
Return to Previous Page