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J-GLOBAL ID：200903090787974044
光転写用マスクおよびその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992231758
Publication number (International publication number)：1994083026
Application date： Aug. 31, 1992
Publication date： Mar. 25, 1994
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、高精度の位相シフターを有する光転写用マスクを得ることを最も主要な特徴とする。【構成】 主表面を有する透明基板1の上に光遮蔽膜パターン2が設けられている。透明基板1の主表面中に、光遮蔽膜パターン2の間を通り、透明基板1を通過する光の位相を180°ずらすための不純物イオン注入領域300が設けられている。
Claim (excerpt)：
主表面を有する透明基板と、前記透明基板の上に設けられた光遮蔽膜パターンと、前記透明基板の主表面中に設けられ、前記光遮蔽膜パターンの間を通り、前記透明基板を通過する光の位相を180°ずらせるための不純物イオン注入領域と、を備えた光転写用マスク。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
